Hastelloy C-276이 인산 생산에서 저항할 수 있는 특정 부식 메커니즘

         1. 인산 부식:

• 1. • 인산은 특히 인산 생산에서 일반적으로 발생하는 고온 및 농도에서 부식성이 높은 매체입니다.
     • Hastelloy C-276은 합금 표면에 크롬이 풍부한 보호 패시브 필름이 형성되어 인산의 일반적인 부식에 대한 탁월한 저항성을 나타냅니다.
     • 이 패시브 필름은 고온 및 고농도에서도 인산의 직접적인 공격으로부터 기본 합금을 효과적으로 보호합니다.

  2. 공식 부식:

     • 인산은 특히 불순물이나 오염 물질이 있는 경우 많은 합금에 국부적인 공식 부식을 유발하기 쉽습니다.
     • Hastelloy C-276의 높은 몰리브덴 함량과 균형 잡힌 합금 조성은 인산 환경에서 공식 부식에 대한 탁월한 저항성을 제공합니다.
     • 몰리브덴은 패시브 필름을 안정화하고 구덩이의 시작 및 전파를 방지하는 데 도움이 됩니다.

  3. 틈새 부식:

     • 틈새 부식은 인산 생산 장비에서 흔히 발생하는 문제로, 좁은 간격과 설계 기능으로 인해 국부적인 부식에 취약한 틈새가 생성될 수 있습니다.
     • Hastelloy C-276은 제한된 정체된 영역에서도 보호 패시브 필름을 유지하는 능력 덕분에 인산의 틈새 부식에 대한 탁월한 저항성을 보여줍니다.

  4. 응력 부식 균열:

     • 인장 응력과 부식성 인산 환경의 조합으로 인해 일부 합금에서 응력 부식 균열이 발생할 수 있습니다.
     • Hastelloy C-276의 균형 잡힌 니켈, 크롬 및 몰리브덴 함량은 높은 가공 경화율과 함께 인산의 응력 부식 균열에 대한 탁월한 저항성에 기여합니다.

  5. 고온 부식:

     • 인산 생산에는 종종 고온이 수반되며, 이로 인해 많은 재료의 부식 속도가 악화될 수 있습니다.
     • Hastelloy C-276은 안정적인 패시브 필름과 고온 기계적 특성 덕분에 인산 생산 공정의 일반적인 고온에서도 우수한 내식성을 유지합니다.